工業超純水設備助力上海集成電路產業增速

　　7月21日，上海市人民政府辦公廳印發《上海市戰略性新興產業和主導產業發展“十四五”規劃》�！兑巹潯诽岢�，“十四五”期間，集成電路產業規模年均增長率將達到20%左右，力爭使制造業領域兩家企業收入穩定在世界前列，在設計、裝備材料領域培育一批上市企業。到2025年，基本建成具有全球影響力的集成電路產業創新高地。重點發展：

　　1、集成電路設計。提高5G通信、桌面CPU、人工智能、物聯網、汽車電子等核心集成電路研發能力，加快發展核心IP，推動FPGA、絕緣柵雙極晶體管(IGBT)、高端微控制器(MCU)等關鍵器件研發。提高集成電路設計工具的供給能力，培育全過程電子設計自動化(EDA)平臺，優化國內EDA產業發展的生態環境。

　　2、制造和密封試驗。擴大成熟集成電路工藝生產線的生產能力，提高產品收率，提高先進工藝的量產規模，不斷加快先進工藝的研發。提高特色工藝集成電路的研發和規模制造能力。進一步提升先進包裝檢測產業規模。

　　3、設備和材料。加快發展蝕刻機、清洗機、離子注入機、測量設備等高端產品。開展核心設備關鍵部件研發。提高12英寸硅片和先進光刻膠的研發和產業化能力。(資訊來源：中證網)

　　工業超純水設備助力集成電路產業增速

　　在集成電路生產中，超純水主要用于清洗硅片，少量水用于藥液配制、硅片氧化蒸汽源、部分設備冷卻水和電鍍液配制。集成電路產品的質量與產量密切相關。水中的堿金屬(k、Na等)會使絕緣膜的耐壓變差，重金屬(AU、Ag、Cu等)會降低PN結的耐壓，III族元素(B、Al、GA等)會使n型半導體的特性惡化，V族元素(P、as、Sb、，等)會惡化p型半導體的特性，水中細菌經高溫碳化后的磷(約20%～50%的灰分)會使p型硅片上的局部區域變成n型硅，導致器件性能的惡化。如果水中的微粒(包括細菌)吸附在硅片表面，會造成電路短路或特性不良�？梢�，超純水在半導體工業中是必不可少的。

　　傳統的超純水處理工藝為單級/兩級反滲透設備+混床。其缺點是需要再生，不能連續產水，不僅效率低，而且浪費資源。而超純水設備采用反滲透加離子交換系統(或EDI)相結合的工藝來制取超純水，與傳統工藝相比，該工藝具有運行成本低(大大延長了離子交換器的再生周期)和運行可靠等優點。超純水設備的出水水質符合美國ASTM d5127《電子半導體工業用e-1.2型純水水質標準》，高于中國國家電子超純水標準gbt11446.1-1997 EW-I。

　　《上海市戰略性新興產業和先導產業發展“十四五”規劃》規劃提出，以國家重大戰略任務為牽引，強化創新平臺體系建設、關鍵技術攻關和重大項目布局，持續提升產業能級和綜合優勢。到2025年，基本建成具有全球影響力的集成電路產業創新高地。先進制造工藝進一步提升，核心裝備和關鍵材料國產化水平進一步提高，基本形成自主可控的產業體系。