半導體行業“攜手”超純水設備 推動行業發展

　　半導體在集成電路、消費電子、通信系統、光伏發電、照明、大功率電源轉換等領域都有應用，如二極管就是采用半導體制作的器件。無論從科技或是經濟發展的角度來看，半導體的重要性都是非常巨大的。大部分的電子產品，如計算機、移動電話或是數字錄音機當中的核心單元都和半導體有著密切的關聯。常見的半導體材料有硅、鍺、砷化鎵等，硅是各種半導體材料應用中具有影響力的一種。

　　第三代半導體材料以碳化硅、氮化鎵為代表，其禁帶寬度明顯高于前兩代，被廣泛應用于高溫、高功率、高壓、高頻等大功率領域。2020年，全球SiC和GaN功率半導體的銷售收入預計8.54億美元，預計到2029年將超過50億美元。第三代半導體目前處于發展初期，國內企業和國際巨頭差距相對較小，且不受摩爾定律先進制程的制約，看好國內企業的發展機遇。

　　半導體元件在生產中對水質要求很高，超純水成為了半導體行業用水的配套裝置。目前采用反滲透水處理設備和電去離子(EDI)設備及拋光混床相結合的方式生產超純水。這是一種生產超純水的新工藝，也是一種環保、經濟和發展潛力較大的超純水制備工藝。

　　萊特萊德專業提供電子、光伏、半導體、TFT顯示材料行業超純水及廢水回用解決方案。超純水設備采用預處理、反滲透技術、超純化處理以及后級處理等方法，將水中的導電介質幾乎完全去除，又將水中不離解的膠體物質、氣體及有機物均去除至很低程度的水處理設備。超純水系統設備的脫鹽核心部件為反滲透膜組件，超純水系統設備通常由預處理部分，反滲透主機部分，后處理部分共同組成。

　　萊特萊德超純水設備，超純水精度可達美標E1.3。采用膜表面嫁接技術達到更好的脫鹽率;PLC智能化程序方便靈活操作，節省人力投入;新型潔凈循環管道技術保證系統運行無污染物析出，確保系統內無死水;CDI新型電除鹽技術，高頻電子極板形成強電場運行環境，有效提高脫鹽率。

　　電子級超純水設備采用獨有的靶向離子交換系統針對超純水中難處理的硼及其他離子定向去除同時還能連續、穩定地生產高純度的超純水。在晶圓、電子芯片、集成電路、精密儀器、電鍍涂裝、試劑稀釋、氟化工等領域多有應用。